溫濕度控制系統(tǒng)在基板曝光前，能有效維持其表面溫度的均一性。經(jīng)過此設(shè)備處理后的空氣，溫度控制精度可達(dá)目標(biāo)值±0.01℃，充分滿足制程環(huán)境對溫控的要求。

溫濕度控制在基板曝光前，能有效維持其表面溫度的均一性。經(jīng)過此設(shè)備處理后的空氣，溫度控制精度可達(dá)目標(biāo)值±0.01℃，充分滿足制程環(huán)境對溫控的要求。

氣體溫濕度在基板曝光前，能有效維持其表面溫度的均一性。經(jīng)過此設(shè)備處理后的空氣，溫度控制精度可達(dá)目標(biāo)值±0.01℃，充分滿足制程環(huán)境對溫控的要求。